진공 스퍼터링

1. 소개

일반적으로 고속 저온 스퍼터링 방법에 속하는 마그네트론 스퍼터링을 말합니다. 불활성 가스(AR)가 진공에 채워지고 캐비티와 금속 타겟(음극) 사이에 고전압 직류가 추가됩니다. 글로우 방전에 의해 생성된 전자가 불활성 가스를 여기시켜 아르곤 양이온을 발생시키면 양이온이 고속으로 음극 타겟 쪽으로 이동하고 타겟 원자가 폭발하여 플라스틱 기판에 증착되어 필름을 형성합니다. 중국 증발 진공 코팅기 제조업체

2, 원칙

고에너지 입자(보통 전기장에 의해 가속되는 양이온)를 사용하여 고체 표면에 충격을 가할 때 고체 표면의 원자와 분자가 입사된 고에너지 입자와 운동 에너지를 교환하는 현상을 스퍼터링이라고 합니다. 튀긴 원자(또는 클러스터)는 일정량의 에너지를 가지고 있으며, 고체 기판의 표면에 재증착 및 응축되어 박막을 형성할 수 있습니다.

3. 진공 스퍼터링을 위한 공기 압력 요구 사항

진공 스퍼터링은 글로우 방전을 구현하기 위해 불활성 가스를 진공 상태로 채워야 하며 이 공정의 진공도는 분자 전류 상태입니다.

4. 프로세스 흐름

기판과 타겟의 특성에 따라 진공 스퍼터 코팅도 프라이머 없이 직접 스퍼터링이 가능합니다. 진공 스퍼터 코팅은 전류와 시간을 조정하여 추가 할 수 있지만 너무 두껍지 않아야하며 일반적인 두께는 0.2 ~ 2um입니다.