PVD 스퍼터링 코팅기에 적합한 타겟은 무엇입니까?

스퍼터링 타겟 재료는 일반적으로 타겟 블랭크와 백 플레이트로 구성되는 고순도, 고밀도, 다성분 및 균일한 입자의 특성을 가지고 있습니다. 타겟 블랭크는 스퍼터링 타겟 물질의 핵심 부분에 속하며 고속 이온빔에 의해 충격을 받는 타겟 물질입니다. 타겟이 이온의 영향을 받은 후 타겟 표면의 원자가 스퍼터링되고 기판에 증착되어 전자 박막을 형성합니다. 고순도 금속의 낮은 강도로 인해 스퍼터링 타겟은 고전압 및 고진공 기계에서 스퍼터링 공정을 완료해야 합니다. 중국 플라즈마 코팅기 제조업체 환경. 초고순도 금속의 스퍼터링 타겟 블랭크는 다양한 용접 공정을 통해 백 플레이트와 접합되어야 합니다. 백 플레이트는 주로 스퍼터링 타겟을 고정하는 역할을 하며 전기 및 열 전도성이 좋아야 합니다.

사용되는 다른 재료에 따라 스퍼터링 타겟은 금속/비금속 단일 물질 타겟, 합금 타겟 및 복합 타겟으로 나눌 수 있습니다. 스퍼터링 증착 기술은 반복성이 좋고 막 두께를 제어 할 수 있으며 균일 한 두께로 넓은 영역의 기판 재료에서 얻을 수 있습니다. 제조된 필름은 고순도, 우수한 조밀성 및 기재 재료와의 강한 접착력의 장점이 있어 박막 재료 제조의 주요 기술 중 하나가 되었습니다.

초고순도 금속 및 스퍼터링 타겟은 전자 재료의 중요한 구성 요소입니다. 스퍼터링 타겟 산업 체인은 주로 금속 정제, 타겟 제조, 스퍼터링 코팅 및 터미널 응용을 포함하며 그 중 타겟 제조 및 스퍼터링 코팅은 전체 스퍼터링 타겟 산업 체인의 핵심 링크입니다.

업스트림 금속 정제는 주로 천연 핵심 금속 광석에서 이루어집니다. 일반 금속의 순도는 99.8%에 도달할 수 있으며 스퍼터링 타겟의 순도는 99.999%에 도달해야 합니다.

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