Magnetron Sputtering Coating Machine은 증착 속도 및 필름 특성에 대한 정확한 제어를 어떻게 보장합니까?

증착 속도는 스퍼터링 대상에 공급되는 전력에 의해 크게 영향을받으며, 스퍼터링 공정의 강도와 효율에 직접적인 영향을 미칩니다. 전력 입력을 조정함으로써 운영자는 대상 재료로 전달되는 에너지의 양을 제어 할 수 있습니다. 전력 수준이 높을수록 스퍼터링 수율이 높아져 표적으로부터 더 많은 재료가 배출되고 기판에 증착되어 증착 속도가 증가합니다. 반대로, 더 낮은 전력 수준은 더 미세한 제어가 필요할 때 사용되므로 정밀도가 높은 얇은 코팅을 보장합니다. 펄스 전력 (교대 전원 공급 장치)을 사용하면 대상 과열을 최소화하고 필름 품질을 향상 시키며 필름의 물리적 특성을 더 잘 제어 할 수 있습니다.

공정 가스, 아르곤 또는 산소 또는 질소와 같은 반응성 가스의 혼합물은 스퍼터링을위한 매체 역할을합니다. 진공 챔버 내부의 가스의 유속 및 압력은 혈장 내에서 올바른 수준의 이온화를 유지하기 위해 정확하게 제어됩니다. 이 공정은 스퍼터링 수율이 일관되게하고 대상에서 배출 된 재료가 기판에 균일하게 분포되도록합니다. 가스 압력은 또한 물질 제거 속도, 혈장의 특성 및 밀도, 접착 및 부드러움과 같은 박막의 최종 특성에 영향을 미치는 표적 재료를 폭격하는 이온의 에너지에 영향을 미칩니다.

그만큼 마그네트론 스퍼터링 코팅 기계 자기장을 사용하여 전자를 포획하고 혈장 이온화 효율을 향상시킵니다. 이 자기장은 마그네트론에 의해 생성되며, 이는 표적 물질과 혈장 사이의 상호 작용을 최적화하기 위해 전략적으로 위치된다. 잘 설계된 Magnetron 구성은 대상 근처의 플라즈마에 중점을두고 강화하여 스퍼터링 효율 및 증착 속도를 증가시킵니다. 자기장 강도 및 구성을 조정함으로써, 공정은 최소화 된 전자 손실 및 원치 않는 입자로부터의 오염 감소로 안정적인 고품질 코팅을 달성하도록 최적화 될 수있다.

스퍼터링 대상의 재료 조성은 증착 특성에 직접 영향을 미칩니다. 금속, 합금 또는 세라믹과 같은 다른 재료는 다른 스퍼터링 수율과 반응성을 가지며, 이는 증착 된 필름의 균일 성과 품질에 영향을 미칩니다. 시간이 지남에 따라, 표적 재료의 표면은 침식을 겪고, 이는 스퍼터링 특성을 변화시킨다. 따라서, 균일 한 증착을 보장하기 위해서는 대상을 양호한 상태로 유지하는 것이 필수적이다. 대상 표면을 정기적으로 교체하거나 청소하면 고르지 않은 침식 패턴을 방지하고 일관된 스퍼터링 속도를 유지하여 코팅의 두께 및 조성의 균일 성을 보장 할 수 있습니다.

기질 온도는 증착 된 필름의 미세 구조 및 접착에서 중요한 역할을한다. 기질이 너무 추워지면 필름이 제대로 부착되지 않아 결합 및 필름 박리가 불량합니다. 반대로, 기질 온도가 너무 높으면 필름이 너무 거칠거나 바람직하지 않은 응력을 경험할 수 있습니다. 최적의 온도 범위에서 기질을 유지하면 원하는 결정 구조가 촉진되어 필름의 기계적 특성 및 광학적 특성이 향상됩니다. 온도 제어는 난방 또는 냉각 시스템을 사용하여 달성되며, 전자 장치 또는 광학 코팅 용 박막을 증착 할 때와 같은 각 특정 응용 분야에 대해 신중한 조정이 필요합니다.

현대적인 Magnetron 스퍼터링 코팅 기계에는 두께, 균일 성 및 표면 거칠기와 같은 주요 필름 특성을 지속적으로 측정하는 정교한 모니터링 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 석영 크리스탈 미생물, 광학 센서 및 프로파일 미터를 포함한 다양한 센서를 사용하여 증착 공정에 대한 실시간 피드백을 제공합니다. 이 데이터를 지속적으로 분석함으로써 연산자는 전력 수준, 가스 흐름 및 기판 위치와 같은 프로세스 매개 변수를 조정하여 원하는 필름 특성을 달성 할 수 있습니다. 자동화 된 제어 시스템의 사용은 또한 인적 오류를 줄이고 반복성을 높이며 전반적인 프로세스 일관성을 향상시킵니다 .