마그네트론 스퍼터링 진공 코팅 기계- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

마그네트론 스퍼터링 진공 코팅 기계

Magnetron 스퍼터링 진공 코팅 시스템은 고 에너지 이온을 사용하여 얇은 재료 층을 기판에 증착합니다. 이 공정은 빠르고 저렴하며 고급 코팅을 생성합니다. 고 에너지 이온은 소스 재료로부터 방출되어 아르곤과 같은 불활성 가스와 충돌한다. 이들 이온은 혈장을 생성하고 소스 재료의 원자가 배출된다.

Magnetron 스퍼터링 진공 코팅 기계는 일반적으로 보석 제조에 사용됩니다. 로터리 및 고정 설계는 다양한 코팅 요구 사항을 충족하도록 쉽게 조정할 수 있습니다. 이 기계는 금속 또는 비금속 기판을 코팅하는 데 적합합니다. 플라스틱, 세라믹 및 크리스탈 유리를 코팅하는 데 사용될 수도 있습니다. 고급 기능에는 균일 성과 빠른 증착 속도가 포함됩니다.

Magnetron Sputtering 진공 코팅 시스템은 대량 생산을위한 강력하고 다양한 도구입니다. 요구와 응용에 따라이 기술은 원하는 특성을 가진 다양한 박막을 만들 수 있습니다. 다른 전력 시스템, 재료 및 가스를 사용하여 공정을 최적화 할 수 있습니다. 프로세스가 시작되기 전에 기판이 홀더에 장착됩니다. 그런 다음 홀더는로드 잠금 챔버를 통과하여 움직이지 않도록합니다.

이 진공 코팅 시스템은 패스 속도의 높은 수준의 고품질 코팅을 생성하는 저렴한 방법입니다. 항공 및 고급 전자 제조에 이상적입니다. 또한 합금 도금 및 복합 금속 필름에도 사용될 수 있습니다. 이것은 많은 유형의 재료를 코팅하는 경제적이고 효과적인 방법입니다.

Magnetron 스퍼터링 진공 코팅 시스템은 전자 제한을 활용하는 스퍼터링 소스를 사용합니다. 자석은 표적의 표면에 전자를 트랩하여 혈장 밀도가 높고 증착 속도가 높아집니다. 기존의 스퍼터링 방법과 달리이 기술은 안전하며 코팅 물체에 손상을 일으키지 않습니다.

공정에 사용 된 스퍼터링 가스는 중요한 고려 사항입니다. 사용해야 할 가스의 유형은 기판의 원자량에 따라 다릅니다. 예를 들어, 가벼운 재료는 네온 또는 크세논의 사용으로 인한 이점이 있습니다. 챔버에 산소가 함유된다면, 공정은 반응성이 될 것이다.

스퍼터링 공정은 대상 재료를 반응성 가스에 노출시키는 것입니다. 이들 가스는 표적 물질과 반응하여 분자 화합물을 생성한다. 이어서, 재료는 박막 코팅으로 증착된다. 예를 들어, 실리콘 표적이 산소 또는 질소로 반응 적으로 스퍼터링되는 경우, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘을 생성한다. 이 방법은 종종 여러 재료를 동시에 코팅하는 데 사용됩니다.

마그네트론 스퍼터링 코팅 기계

멀티 아크 이온 및 스퍼터링 코팅은 광범위한 색상으로 증착 될 수 있습니다. 증착 공정 동안 챔버에 반응성 가스를 도입함으로써 색상의 울퉁불퉁 한 것이 더욱 향상 될 수있다. 장식 코팅에 널리 사용되는 반응성 가스는 질소, 산소, 아르곤 또는 아세틸렌입니다. 장식 코팅은 코팅의 금속 대 가스 비율과 코팅의 구조에 따라 특정 색 범위로 생성됩니다. 이들 요인 모두 증착 파라미터를 변경함으로써 변경 될 수있다.

증착 전에, 부품이 청소되도록 표면에 먼지 또는 화학적 불순물이 없도록. 코팅 프로세스가 시작되면 모든 관련 프로세스 매개 변수는 자동 컴퓨터 제어 시스템에 의해 지속적으로 모니터링되고 제어됩니다.

• 기질 재료 : 유리, 금속 (탄소강, 스테인리스 스틸, 황동), 세라믹, 플라스틱, 보석.

• 구조 유형 : 수직 구조, #304 스테인리스 스틸.

• 코팅 필름 : 다기능 금속 필름, 복합 필름, 투명 전도성 필름, 반사 기능 발동 필름, 전자기 차폐 필름, Decorative Film.

• 필름 색상 : 멀티 컬러, 총 검은 색, 티타늄 황금색, 로즈 골든 컬러, 스테인레스 스틸 컬러, 자주색, 진한 검은 색, 진한 파란색 및 기타 더 많은 색상.

• 필름 유형 : Tin, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN 및 DLC.

• 생산 소모품 : 티타늄, 크롬, 지르코늄, 철, 합금 표적; 평면 대상, 원통형 목표, 트윈 대상, 반대 대상

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