PVD 스퍼터링 코팅 기계에 적합한 목표는 무엇입니까?- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

PVD 스퍼터링 코팅 기계에 적합한 목표는 무엇입니까?

스퍼터링 된 표적 재료는 고순도, 고밀도, 다중 성분 및 균일 한 곡물의 특성을 가지며, 일반적으로 표적 블랭크 및 후면 플레이트로 구성됩니다. 대상 블랭크는 스퍼터링 대상 재료의 핵심 부분에 속하며 고속 이온 빔에 의해 폭격 된 대상 재료입니다. 표적이 이온에 의해 영향을받은 후, 표적의 표면의 원자를 스퍼터링하고 기판에 퇴적하여 전자 박막을 형성한다. 고순도 금속의 낮은 강도로 인해 스퍼터링 대상은 고전압 및 고전 진공 기계로 스퍼터링 공정을 완료해야합니다. 중국 플라즈마 코팅 기계 제조업체 환경. 초고 순도 금속의 스퍼터링 대상은 다른 용접 공정을 통해 백 플레이트와 결합되어야합니다. 백 플레이트는 주로 스퍼터링 대상을 고정하는 역할을하며 전기 및 열전도율이 우수해야합니다.

사용 된 상이한 재료에 따르면, 스퍼터링 목표는 금속 / 비금속 단일 재료 표적, 합금 표적 및 화합물 표적으로 나눌 수있다. 스퍼터링 증착 기술은 반복성이 우수하며, 필름 두께를 제어 할 수 있으며, 균일 한 두께를 가진 넓은 영역의 기판 재료에서 얻을 수 있습니다. 제조 된 필름은 고순도, 우수성 및 기질 재료에 대한 강한 접착력의 장점을 가지고 있으며, 이는 박막 재료를 준비하기위한 주요 기술 중 하나가되었습니다.

초 고순도 금속과 스퍼터링 목표는 전자 재료의 중요한 구성 요소입니다. 스퍼터링 대상 산업 체인에는 주로 금속 정제, 대상 제조, 스퍼터링 코팅 및 터미널 응용 프로그램이 포함되며, 그 중 목표 제조 및 스퍼터링 코팅은 전체 스퍼터링 목표 산업 체인의 주요 링크입니다.

상류 금속 정제는 주로 천연 키 금속 광석에서 나온 것입니다. 일반 금속의 순도는 99.8%에 도달 할 수 있으며 스퍼터링 목표의 순도는 99.999%에 도달해야합니다.

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